Al / Anodik SiO2 / p-Si MOS yapılarında arayüzey hal yoğunluk dağılımı üzerine termal tavlama ve anodik oksidasyon parametrelerinin etkisi


Sağlam M., TÜRÜT A. , Efeoğlu H., Yıldırım M., Yoğurtçu Y.

TFD-15 Ulusal Fizik Kongresi, Antalya, Türkiye, 01 Eylül 1995

  • Basıldığı Şehir: Antalya
  • Basıldığı Ülke: Türkiye